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當(dāng)前位置:首頁(yè)   >  產(chǎn)品中心  >  快速退火爐  >  SSI系列  >  Solaris 150UV快速退火爐

快速退火爐

簡(jiǎn)要描述:美國(guó)RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達(dá)到200mm,溫度可以達(dá)到1200攝氏度,處理過(guò)程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進(jìn)氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Solaris 150UV
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-17
  • 訪  問(wèn)  量:2120

詳細(xì)介紹

基于PID處理控制器的Solaris GUI可以存儲(chǔ)程序,每套程序可以支持高達(dá)100個(gè)步驟的設(shè)定,帶USB2.0的接口。包含Solaris GUI 軟件,與微軟Windows操作系統(tǒng)兼容。通過(guò)該軟件,通過(guò)鏈接電腦可以非常方便地實(shí)現(xiàn)程序編輯以及數(shù)據(jù)記錄。

 

技術(shù)規(guī)格:

- 溫度:1200攝氏度;

- 升溫速率:150攝氏度/秒;

- 溫控均勻性:±2.5℃設(shè)定溫度;

- 加熱方式:紅外鹵素?zé)?,頂部及底部區(qū)域加熱;

- 處理時(shí)間:0.1秒至無(wú)*;

- 燈管數(shù)量及功率:13支,

- 腔體冷卻:風(fēng)冷方式;

- 襯底冷卻:氮?dú)獯祾撸?/span>

- 工藝氣路:MFC控制,多6 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?/span>)

型號(hào)

Solaris 100

Solaris 150

Solaris 150UV

Solaris 200

Solaris Eclipse

處理大樣品尺寸

100mm

150mm

150mm

200mm

200mm

溫度()

室溫~1200/s

室溫~1200/s

室溫~1200/s

室溫~1200/s

室溫~1200/s

工藝氣體

1~4

1~6

1~6

1~6

 

紅外鹵素?zé)?/span>

13

21

 

28

 

紅外鹵素?zé)衾鋮s方式

風(fēng)冷

風(fēng)冷

風(fēng)冷

風(fēng)冷

風(fēng)冷

溫度控制

PID數(shù)控

PID數(shù)控

PID數(shù)控

PID數(shù)控

PID數(shù)控

溫度精度

±2

±2

±2

±2

±2

熱電偶

K型熱電偶

K型熱電偶

K型熱電偶

K型熱電偶

K型熱電偶

臭氧功能

 

 

有,蝕刻速率> 25-50A /min

 

 

機(jī)器外觀

臺(tái)式機(jī)

臺(tái)式機(jī)

臺(tái)式機(jī)

臺(tái)式機(jī)

臺(tái)式機(jī)

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

擴(kuò)散 (Diffusion);

化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annealing);

離子注入后退火 (Implant Annealing);

電極合金化 (Contact Alloying);

晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);

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