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簡(jiǎn)要描述:shipley s1813光刻膠S1800系列, 正膠、紫外光刻膠。光源推薦:g-Line,也可以用于寬譜。單層厚度:0.4-2.7um。型號(hào):S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2應(yīng)用:應(yīng)用于濕法腐蝕和干法刻蝕,也與底層膠LOR搭配,做lift-off 工藝。
產(chǎn)品分類
詳細(xì)介紹
S1800系列光刻膠
shipley s1813光刻膠
產(chǎn)品介紹:
S1800系列, 正膠、紫外光刻膠。
光源推薦:g-Line,也可以用于寬譜。
單層厚度:0.4-2.7um。
型號(hào):
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
應(yīng)用:
應(yīng)用于濕法腐蝕和干法刻蝕,也與底層膠LOR搭配,做lift-off 工藝。
特性:
● 通過ZXJ的物理、化學(xué)和功能測(cè)試,保證批次與批次之間的一致性
● 絕對(duì)過濾精度0.2um,雜質(zhì)少
● 不含醋酸纖維素和二甲苯
● 高分辨
● 粘附性好
● 涂膠厚度均勻
● 多種標(biāo)準(zhǔn)粘度可用于單層加工
● 可適用于無金屬離子的(MIF)顯影液和含金屬離子的顯影液(MIC)
● 易去膠
S1800系列配套顯影液
shipley s1813光刻膠
型號(hào):
MICROPOSITR MF-319 DEVELOPER
主要成分:
水 >95% CAS 7732-18-5
表面活性劑 <1%
四甲基氫氧化銨 2.2% CAS 75-59-2
原理與使用方法:
MF-319顯影液專門用于高分辨率半導(dǎo)體器件。它是S1400®和S1800®系列光刻膠的專用無金屬離子的顯影液。雖然MF-319顯影液可以用于浸泡顯影、旋噴顯影,但較好的顯影方式是噴霧式或者puddle式顯影。
儲(chǔ)存:
存儲(chǔ)在干燥區(qū)域,溫度范圍為50°-90°F(10°-32°C)。
遠(yuǎn)離酸、陽光、熱源和火源。
放入密封的貯藏器。
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