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  • MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner

    MYCRO*荷蘭光刻機(掩膜曝光光刻機Mask Aligner ),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

    訪問次數(shù):3057
    產(chǎn)品價格:面議
    廠商性質(zhì):代理商
    更新日期:2024-05-17
  • MEMA-800光刻機Mask Aligner

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    訪問次數(shù):1985
    產(chǎn)品價格:面議
    廠商性質(zhì):代理商
    更新日期:2024-05-17
  • MMA16光刻機Aligner MMA

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    訪問次數(shù):2427
    產(chǎn)品價格:面議
    廠商性質(zhì):代理商
    更新日期:2024-05-17
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