18971121198
當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 耗材 > TMAH
正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 能選擇性地溶解未曝光的光刻膠，留下已曝光部分形成所需的圖形，從而將掩膜版上的圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片等襯底材料上。同時，它還可用于硅片的濕法刻蝕，對硅等材料進(jìn)行腐蝕加工，制作微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）結(jié)構(gòu)，如加速度計(jì)、壓力傳感器等。
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
傳真：歡迎您關(guān)注我們的微信公眾號了解更多信息
掃一掃
歡迎來到